据外媒报道，全球最大存储芯片制造商三星电子周二宣布，该公司开始使用极紫外光刻（EUV）技术批量生产业界最小的14纳米DRAM芯片，这有助于其巩固在存储行业的领导地位。

继去年3月出货业界首款EUV DRAM之后，三星电子已将EUV层的数量增加到5层，为其DDR5解决方案提供当今最精细、最先进的DRAM生产工艺。

DDR5是下一代DRAM标准，与DDR4相比，它具有速度快、密度高、功耗低的特点。        它还针对大数据、人工智能（AI）和机器学习等数据密集型应用进行了优化。

三星电子表示，EUV技术减少了多图案绘制中的重复步骤，提高了图案绘制的准确性，从而实现了更好的性能和更高的产量，并缩短了开发时间。